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單晶槽式制絨設備

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設備名稱 Equipment Name
單晶槽式制絨設備 Mono-crystalline Batch Texturing Equipment

設備型號 Equipment Model
SC-CSZ8000E-15F

設備用途 Equipment Application
主要對單晶硅太陽能電池用硅片進行絨面腐蝕和清洗處理。
Used for texturing& cleaning of mono crystalline wafers.

工藝流程 Processing Steps
去損傷→預清洗→單晶制絨→后處理→酸洗→預脫水→烘干  
Saw damage remova
l→Pre-cleaning→Mono-texturing→Postcleaning→Acid cleaning→Hot water drying→Drying (for reference only)

技術特點  Features

· 產能:400PCS/批 8000PCS/H。
  Throughput: 400PCS/batch, 8000PCS/H.

· 工藝槽循環量可調。
  Process Bath circulation volume adjustable.

· 制絨金字塔均勻,刻蝕深度可調。
  Uniform pyramids texture, etch depth adjustable. 

· 支持最薄120μm硅片。
  Wafer thickness down to 120μm.

· 潔凈干燥區域,自潔凈干燥系統。
  With clean dry area and self-clean dry system.

· 可以實現H2O2 free。
  H2O2 free.

· 快速換液,在線換液。
  Quick inline bath change.

· 支持MES、RFID及選配在線稱重功能。
  Suitable with MES, RFID and inline weight testing optional.


設備參數 Parameters